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仪器信息网 典型用户 天津师范大学 原子层沉积系统

原子层沉积系统

原子层沉积系统（ALD） 品牌：SUN 型号：R-200（6路）

仪器名称：
原子层沉积系统

英文名称：
Atomic Layer Deposition System

所属分类：
工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 电真空器件工艺实验设备

学科领域：
物理学 材料科学

主要技术指标：
衬底尺寸和类型:50 – 200 mm /单片 156 mm x 156 mm 太阳能硅片 3D 复杂表面衬底 粉末与颗粒 多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品 Roll-to-roll , 衬底最大宽 70 mm

主要功能：
提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性，包括最具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品

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