典型用户

PLD+磁控溅射联合镀膜系统

激光脉冲沉积(PLD) 品牌：真空型号：PLD+JGP450

仪器名称：

PLD+磁控溅射联合镀膜系统

英文名称：

无

所属分类：

工艺试验仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

其他

主要技术指标：

1.各真空室尺寸：进样室：尺寸：立式，Ф内200X150mm；PLD室：（球）Ф内450 mm；磁控溅射室：立式上升盖，Φ内400X350 mm。全为不锈钢结构。　　　2. 样品架：PLD室：样品尺寸Φ30 mm，样品加热温度： 800 ℃；样品自转：0～60转/分；样品移动距离：50 mm。磁控溅射室：样品尺寸Φ30 mm，样品加热温度： 500 ℃；样品自转：0～60转/分；样品移动距离：20 mm。　　　3. 多工位激光转靶：安装四块1英寸靶材。每块靶材可公转到溅射位置并精确定位，自转转速0-60转/分，移动距离：60。

主要功能：

无

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淄博高新技术产业开发区先进陶瓷研究院拥有高温箱式炉（1800）、微米压痕仪、多功能粉末流动性测定仪、铁电分析仪、阻抗分析仪、PLD+磁控溅射联合镀膜系统、原子吸收光谱、紫外可见近红外分光光度计、陶瓷高温万能材料试验机、综合热分析仪等科研仪器。

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