真空多弧离子镀及离子注入设备
离子注入机
品牌:泰科
型号:Technol(非标)
仪器名称:
真空多弧离子镀及离子注入设备
英文名称:
Vacuum multiarc ion plating and ion implantation equipment
所属分类:
工艺试验仪器 > 加工工艺实验设备 > 其他
学科领域:
物理学 材料科学 冶金工程技术 机械工程
主要技术指标:
考夫曼离子源:栅网口径: 6cm,离子能量:100-600eV,离子束流:100mA,不均匀性:±15%,均匀区:ф170mm,距离:300m,工作气体:氩或氧。多弧电源:电源电压: AC 220V±15% ,50/60 HZ,额定输入功率:7 KVA,额定输入电流:32A,额定输出电压:20-40V(可调),开关频率:100KHZ,输出电流: 20~120A(连续可调)。金属离子源:单电荷离子能量范围为20~80Kev,平均离子束流:≧10mA ,引出电压:20-80kV,束斑直径:10cm,金属源尺
主要功能:
材料表面清洗与活化,材料表面离子注入改性及多种功能薄膜的制备。