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LabCVD -125SYS型实验室小型在线镀膜器

化学气相沉积（CVD）品牌：宁波华尔克应用材料有限公司型号：LabCVD-125STS型

仪器名称：

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 加工工艺实验设备 > 其他

学科领域：

材料科学

主要技术指标：

1、镀膜基体厚度：3-4mm2、镀膜基体宽度：125mm，静宽度100mm3、最高速度：20m/hr4、镀膜槽：两个喷射槽5、基板温度范围：0-600℃6、镀膜器和电伴热温度：150-180℃

主要功能：

模拟常压在线化学气相沉积法（APCVD）镀膜，可以分别单独控制基板温度，移动速度，推送的原料的量（气化），原料成分和配比等工艺参数来镀制不同的膜层；两个镀膜槽口，可以同时叠加镀膜底膜和顶膜。

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化学气相沉积（CVD）

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海南中航特玻科技有限公司

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海南中航特玻科技有限公司拥有AP-CVD实验系统、高温旋转粘度计、真空石墨气氛高温炉、高温真空气氛反应炉、X射线荧光光谱仪、紫外可见近红外分光光度计、高分辨率肖特基场发射扫描电子显微镜、LabCVD -125SYS型实验室小型在线镀膜器、电感耦合等离子体发射光谱仪等科研仪器。

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