典型用户

等离子增强化学气相沉积系统

化学气相沉积(CVD) 品牌:真空 型号:三室阵列式

仪器名称:
等离子增强化学气相沉积系统

英文名称:
PECVD

所属分类:
工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

学科领域:
电子与通信技术

主要技术指标:
三室阵列式,室温-350℃,常压-10-4Pa

主要功能:
沉积硅薄膜

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