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仪器信息网 典型用户 西北师范大学 脉冲激光溅射沉积系统

脉冲激光溅射沉积系统

激光脉冲沉积(PLD) 品牌：沈阳科学仪器研制中心 型号：PLD-111

仪器名称：
脉冲激光溅射沉积系统

英文名称：
Pulse laser deposition

所属分类：
工艺试验仪器 > 加工工艺实验设备 > 其他

学科领域：
物理学 能源科学技术

主要技术指标：
激光波长：248nm， 能量：250mJ， 极限真空：6×10-5Pa

主要功能：
激光溅射各种金属、陶瓷靶材制备相应材料薄膜及其氧化物薄膜

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