典型用户

磁控溅射设备

物理气相沉积(PVD) 品牌:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 型号:JGP-560

仪器名称:
磁控溅射设备

英文名称:

所属分类:
其他仪器 > 其他 > 其他

学科领域:
其他

主要技术指标:
溅射室极限真空度:6.6*10-6Pa;进样室极限真空度:6.6*10-4Pa;靶材尺寸5*∅50mm; 1个射频靶+3个直流靶;靶距40-80mm可调;Ar、O2、N2三路进气;基底加热温度100-500℃。

主要功能:
用于纳米级单层及多层功能膜—硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等的制备。可广泛应用于半导体、微电子及新材料领域。

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