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超高真空多靶磁控溅射镀膜仪

镀膜机品牌：中科院沈阳科学仪器有限公司型号：JGB560

仪器名称：

超高真空多靶磁控溅射镀膜仪

英文名称：

Ultrahigh vacuum multi-target magnetron sputtering system

所属分类：

物理性能测试仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

物理学

主要技术指标：

1、双室磁控溅射系统，极限压力：主溅射室，6.67*10-6Pa，2、永磁靶5套，三个直流电源，两个射频电源，靶材直径60mm；3、6个样品工位，尺寸直径30mm，基片加热最高600度，退火炉最高温度800度

主要功能：

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备

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