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磁控溅射电子束蒸发系统

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仪器名称:
磁控溅射电子束蒸发系统

英文名称:

所属分类:
工艺试验仪器 > 其他 > 其他

学科领域:
材料科学

主要技术指标:
极限真空≤5.0E-5Pa(经烘烤除气后),衬底固定4衬底固定,可放置4片10×10cm2方形样品,

主要功能:
电子束蒸镀(Electron Beam Evaporation)是物理气相沉积的一种,是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料,使蒸发材料气化并向基板输运,在基底上凝结形成薄膜的方法。电子枪是产生电子束的部件,由直线状螺旋钨阴极、栅极和阳极组成。加速电压采用负高压,阴极和栅极处于相同的负电位,阳极接地电位。阴极由交流供电加热,使之发射电子,电子受栅极电位的影响,在阳极电压加速下形成汇聚的电子束。电子束加热蒸镀的特点是能获得极高的能量密度,可以蒸发难熔金属或化合物。

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