典型用户

脉冲激光沉积系统

激光脉冲沉积(PLD) 品牌：科仪型号：PLD-450B

仪器名称：

脉冲激光沉积系统

英文名称：

Pulsed Laser Deposition，PLD

所属分类：

其他仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

物理学生物学

主要技术指标：

激光器部分： Wavelength: 248nm Pulse Energy ≥400mJ Average Power: no less than 40W Max. Rep. Rate:100Hz Pulse Duration: 20 ns Pulse-to-Pulse Stability(1 Sigma):no larger than 2% Beam Dimensions(V×H): 6×21 mm Beam Divergence(V×H): 1.5×4.5 mrad

主要功能：

真空系统主要用于实现激光沉积所需的低真空环境；准分子激光器作为脉冲激光沉积系统的重要组成部分，其主要功能是将激光瞬间聚焦于靶材上一个较小面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在温度较低的基底上沉积，从而形成薄膜。利用本系统可以制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，还包括一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等；

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