典型用户

PECVD

化学气相沉积（CVD）品牌：创新型号：HFD-3

仪器名称：

PECVD

英文名称：

PECVD

所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

学科领域：

其他

主要技术指标：

真空镀膜

主要功能：

真空镀膜

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北京市科研单位

空间电源技术国家重点实验室拥有有机介质粘合设备、薄膜电池一体式封装设备、干燥房、内联集成电池激光刻划设备、有机元素分析设备、金属聚合物热压设备、化学机械抛光设备、极片截面分析设备、半自动极片组成型设备、隔膜微孔检测设备等科研仪器。

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