典型用户

石墨烯CVD

样品前处理工作站品牌：北京明锐型号：SCI-CVD-200

仪器名称：

石墨烯CVD

英文名称：

Graphene CVD

所属分类：

分析仪器 > 样品前处理及制备仪器 > 其他

学科领域：

化学材料科学能源科学技术化学工程

主要技术指标：

◆ 兼容真空及常压两种主流的生长模式 G-CVD系统是一套完备的石墨烯制备系统，包括硬件和软件部分。工作在常压气氛或真空条件，通过控制，可以在10-3 Torr ~ 760 Torr之间的任意气压下进行石墨烯的生长。既可以生长出六边形的石墨烯单晶，也可以生长出花瓣状的石墨烯的单晶。 ◆ 计算机自动控制，内置多种生长参数整个石墨烯生长过程的重要参数由计算机进行精确控制，包括温度、气体流量等。控制软件内置多种生长优化参数，用户仅需将衬底放入样品腔，即可开始生长。 ◆ 制备高质量石墨烯单晶，单晶尺寸可达数毫米采用特殊优化的生长条件，可以得到尺寸达数毫米的单畴单晶。在多晶薄膜方面，可以制备得到数十厘米尺寸的单层石墨烯薄膜。 ◆ 生长13C同位素石墨烯，研究石墨烯生长动力学过程 G-CVD系统有13C同位素选项，交替生长不同同位素石墨烯，用于研究石墨烯生长的动力学过程。

主要功能：

石墨烯CVD是由厦门烯成新材料科技有限公司与国内顶尖石墨烯研究机构合作开发的二维材料生长系统。G-CVD具备真空及常压两种主流的生长模式，采用计算机自动控制，系统内置了多种石墨烯的生长参数，用户只需简单操作，就可以轻松制备出高质量石墨烯，如单畴尺寸高达数毫米的石墨烯大单晶，数十厘米尺寸的石墨烯多晶薄膜，以及13C同位素石墨烯。该系统为科研人员提供大量的研究机会，同时为实现各种科学想法提供了完美的实验平台。