典型用户

科研兼中式多功能磁控溅射镀膜系统

自动进样器（多功能）品牌：中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司型号：2-14390

仪器名称：

科研兼中式多功能磁控溅射镀膜系统

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 电子产品通用工艺实验设备

学科领域：

物理学化学材料科学电子与通信技术

主要技术指标：

1、极限真空：溅射室(经烘烤)真空度极限≤6.7×10-5Pa。 2、系统漏率：停泵关机 12小时后，溅射室真空度可达≤5Pa。 3/膜厚均性性Φ100mm基片上±5%。 4/系统采用PLC+工控机控制系统，所有工作过程包括抽气过程、放气过程、真空压力控制系统、质量流量器控制气体流量、磁控靶挡板打开关闭、样品挡板打开关闭、射频电源和直流电源的开关和功率参数调整、镀膜时间控制等均采用全自动控制系统。

主要功能：

磁控溅射镀膜

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