典型用户

高真空四靶材磁控溅射系统

样品前处理工作站品牌：科仪型号：JGP-450

仪器名称：

高真空四靶材磁控溅射系统

英文名称：

highvacuumfourtargetsmagnetronsputteringsystem

所属分类：

分析仪器 > 样品前处理及制备仪器 > 其他

学科领域：

材料科学

主要技术指标：

1.4支直径为3英寸圆形平面磁控溅射靶（永磁靶3支，铁磁靶1支；进口Kurt.J.Lesker）。2.腔室极限真空度2×10-5Pa（分子泵：抽气速率600L/S，北京中科院仪器公司：KYKY；机械泵：抽气速率8L/s，爱发科）。3.采用CF150高真空电动闸板阀1台。4.从大气环境到工作背景真空5X10-4Pa时间≤30分钟。5.设备密封性：停泵关机12小时后真空度不高于8Pa。6.膜厚均匀度小于3%。7.基片加热可到500度，公转速度2-20转/分，可控可调。8.靶材利用率不小于40%。9.两套600W射频电源，两套1000W直流溅射电源。10.质量流量控制器两套(100sccm和200sccm各一套)。11.数字式智能流量控制仪，可与电脑连网形成全自动闭环控制，一带四。12.缺水欠压检测与保护、380VAC相序检测与保护、真空检测与保护、温度检测与保护。13.计算机+PLC可编程控制系统1套。14.腔室部分：圆柱型、上开盖、前开门，真空专用不锈钢(奥氏体)；前开门机构一套；预留2套备用法兰口，用于设备的功能扩展。

主要功能：

薄膜制备

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