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单室等离子增强化学气相沉积系统

化学气相沉积（CVD）品牌：科仪型号：PECVD-400a

仪器名称：

单室等离子增强化学气相沉积系统

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 电子产品通用工艺实验设备

学科领域：

其他

主要技术指标：

1、极限真空度：≤6.67x10-6 Pa (经烘烤除气后)。 2、系统漏率：停泵关机 12小时后，溅射室真空度≤5Pa。 3、系统从大气开始抽气，30分钟可达到6.6x10-4 Pa。 4、膜厚不均性性Φ100mm基片上±5%。 5、基片台：可放置100mm基片，基片加热最高温度 600°C±1℃，基片与匀气盘可在20～80mm之间调节，可以加负偏压-200V，基片台转速2~20rpm可调。

主要功能：

薄膜沉积