典型用户

磁控溅射台

其它测量/计量仪器品牌：北京创世威纳科技有限公司型号：MSP-3200

仪器名称：

磁控溅射台

英文名称：

所属分类：

计量仪器 > 声学计量仪器 > 气导听力零级基准装置

学科领域：

电子与通信技术

主要技术指标：

真空系统分子泵系统真空室数量 2个（溅射室、Load－lock室），样片自动送取机械手形式折叠机械手、直线机械手溅射靶规格 Φ50 mm，Φ60 mm，Φ75 mm，Φ80 mm，Φ100mm 溅射靶数量 2－4个磁控靶安装形式 MSP－3200：上置倾斜安装，自上而下溅射 MSP－3200T：下置倾斜安装，自下而上溅射膜层结构单层膜、多层膜、共溅射生长混合膜电源标准配置直流、射频电源选配直流脉冲、中频；直流偏压、射频偏压样品数量及尺寸单片、Φ2－6英寸样品台旋转 1－25rpm、转速连续可调样品加热标准加热器，室温－400度，控温精度±1% 溅射不均匀性 ±3%～±5% 溅射速率与材料和工艺相关，可向厂家询问磁性薄膜制备可选配高温加热器可选配膜厚监控系统可选配氧化溅射系统可选配氧分压闭环控制系统可选配非标准磁路模块可选配 Load－lock室射频清洗模块可选配关键部件可选配进口、国产人机界面 Windows风格界面、触摸屏操作操作方式全自动方式、半自动方式

主要功能：

设备可在片状或类似形状样品表面镀制各种金属、非金属、化合物等薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO2、Al2O3、TaN、ITO、AZO等。

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