激光直写机

仪器名称：

激光直写机

英文名称：

所属分类：

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学科领域：

电子与通信技术

主要技术指标：

灰尘粒子过滤等级：10级；气体流量控制：0.3-0.5m/s； 温度控制：+/-0.1℃；可接受最大基板尺寸：9”*9”； 有效光刻面积：200*200m2；可接受基材厚度：0-6mm； 氦氖激光干涉仪分辨率：10nm 套刻对准精度：100nm-150nm

主要功能：

该系统主要用于涂有光组织的各种基片，玻璃，硅片，或其他平面材料的激光图形直写。 适用于掩膜版的试制和直接进行描写的研究开发。