典型用户

新型特种光纤PCVD研发平台

化学气相沉积（CVD）品牌：长飞光纤光缆股份有限公司型号：PCVD-C/D/G/H/N

仪器名称：

新型特种光纤PCVD研发平台

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 其他 > 其他

学科领域：

其他

主要技术指标：

最高沉积速率达2.0g/min，沉积层数精确控制，适用套管直径28mm-36mm。

主要功能：

该设备为制备新型特种光纤的特制PCVD研发平台，等离子体化学气相沉积（ plasma chemical vapor deposition）简称PCVD，PCVD技术的基本原理是在高频或直流电场作用下，源气体电离形成等离子体，利用低温等离子体作为能量源，通入适量的反应气体，利用等离子体放电，使反应气体激活并实现化学气相沉积的技术。在管材内部，形成等离子体，将原材料电离反应生成SiO2，逐层沉积与管材

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