典型用户

高温氧化炉

氧化扩散设备品牌：ERM 型号：Oxidator150-5

仪器名称：

高温氧化炉

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 电子工艺实验设备 > 半导体集成电路工艺实验设备

学科领域：

其他

主要技术指标：

1.工作温度范围：900-1350℃ 2.温度均匀性：≤±5℃ 3.温区长度：60mm 4.氧化均匀性：片内≤±3%（干）,≤±4%（湿）;片间≤±3%（干）,≤±4%（湿）;批间≤±3%（干）,≤±3%（湿）

主要功能：

该设备主要用于SiC电力电子器件制程中的MOS栅氧工艺，高温下通入氧气，与SiC界面发生反应，形成致密均匀的氧化层，均匀性可达1.5%

典型用户

宽禁带半导体电力电子器件国家重点实验室

北京市科研单位

宽禁带半导体电力电子器件国家重点实验室拥有专用清洗机、GaN外延层MOCVD、自动键合机、高温打胶机、SiC CVD系统、动态特性测试仪、快速退火炉、湿法刻蚀机、MOCVD、真空焊接炉等科研仪器。

ERM

0台仪器 6家供应商

2台仪器 3家供应商

泰思

7台仪器 2家供应商

瑞士铝业

0台仪器 2家供应商

11台仪器 1家供应商

1台仪器 1家供应商

ECO

1台仪器 1家供应商

0台仪器 1家供应商