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溅射等离子增强化学气相沉积一体系统

化学气相沉积（CVD）品牌：北京金盛微纳科技有限公司型号：JCV-2B

仪器名称：

溅射等离子增强化学气相沉积一体系统

英文名称：

所属分类：

工艺试验仪器 > 化工、制药工艺实验设备 > 纯化工艺实验设备

学科领域：

物理学化学材料科学能源科学技术

主要技术指标：

真空系统：分子泵机组；淀积室规格：？400×150mm；淀积室样片台尺寸：？290mm（热均匀区？220mm）；淀积材料：SiO2、Si3N4、非晶硅、碳化硅、类金刚石等；淀积速率：200 - 300 ？/min （与淀积材料和工艺有关）；淀积样片台加热温度：300℃；淀积不均匀性：≤ ±5%；溅射室规格：？450×360mm；溅射靶规格：？80mm；溅射靶数量：1-4可选；溅射材料：AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各种介质膜、金属膜、合金膜等；溅射样片台加热温度：600℃；溅射不均匀性：≤±4%。

主要功能：

该设备具有刻蚀和溅射功能，主要从事半导体设备、微细加工设备的产品研制、设计，并开展相关工艺的研究及应用。产品应用范围涉及微电子、光电子、LED、MEMS、传感器、平板显示、通讯等领域。