半导体工艺技术“全景剖析”与仪器设备选购指南

导言

半导体是现代电子产业的关键支柱,对推动科技进步和产业升级至关重要。随着材料科学、纳米技术、人工智能等领域的交叉融合,半导体工艺技术正迈向更高集成度、更小尺寸、更低功耗的新阶段。而半导体制造设备作为实现这些技术突破的重要载体,其创新与发展也显得尤为重要,尤其在设备国产化的浪潮下,国产设备厂商将迎来更大的发展空间。

仪器信息网特以专题形式整理了半导体工艺技术、仪器设备方面的相关信息以及前沿资讯,从而深入洞察半导体产业的发展态势与世界格局,以期能为半导体从业者在选购仪器设备等方面呈上富有意义的参考,

技术概述

  • 封装工艺和设备简述
    封装工艺和设备简述

    传统封装的目的是将切割好的芯片进行固定、引线和封闭保护。但随着芯片集成度的提高等因素,先进封装被提出,本文以此为背景,简述封装工艺和相...

    5832 2024-05-17
  • 薄膜沉积工艺和设备简述
    薄膜沉积工艺和设备简述

    薄膜沉积(ThinFilmDeposition)是在基材上沉积一层纳米级的薄膜,再配合蚀刻和抛光等工艺的反复进行,就做出了很多堆叠起来...

    566 2024-05-15
  • 第三代半导体材料GaN的挑战和未来
    第三代半导体材料GaN的挑战和未来

    氮化镓(GaN)是一种宽带隙半导体,由于这种材料的特殊性能,在功率密度、耐高温和在高开关频率下工作方面优于硅(Si),从而在多种电力电...

    1399 2024-05-20
  • 干货!CMP抛光垫的作用和种类
    干货!CMP抛光垫的作用和种类

    CMP技术是目前国际公认唯一可以提供全局平坦化的技术,它是半导体技术中的重要应用突破,而CMP抛光垫正是这一工艺中的重要耗材。

    36 2024-05-30

资讯前沿

最新成果/产品/技术速报

精品会议

网络讲座

  • 原子层沉积技术发展及应用

    随着微电子行业的发展,集成度不断提高、器件尺寸持续缩小,使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战。原子层沉积(ALD)技术作为一种优异...

  • Si衬底上GaN基材料外延生长研究进展

    Si基GaN材料结合了Si衬底大尺寸、低成本优势和GaN禁带宽度大、电子饱和漂移速度高等优势,在功率电子器件领域有着很高的应用潜力。然...

  • 硅干法刻蚀技术介绍

    介绍常用的硅干法刻蚀技术及其原理,包括深硅刻蚀、浅硅刻蚀、低温刻蚀,以及脉冲等离子体刻蚀、原子层刻蚀等。

  • 引线键合工艺及监控手段介绍

    主要介绍引线键合互联工艺技术,不同界面焊接工艺优缺点,劈刀选型以及引线键合工艺质量监控方法

查看更多

仪器聚焦

合作企业

  • 科睿设备有限公司
  • QUANTUM量子科学
  • 蓝星宇
  • 赛伦科技
  • 速普仪器
  • MNT
  • 英铂科学仪器
  • stella
  • 迈可诺
  • Sindin
微信扫一扫分享专题吧~
分享
点赞0
top