掩模光刻胶处理及清洗设备

分类小贴士

掩模光刻胶处理及清洗设备主要用于制备微纳米级别的光刻模板。在掩模光刻胶处理过程中，首先需要将光刻胶涂覆在模板表面上，然后使用曝光模板进行照射，通过显影将未曝光区域的光刻胶去除，形成微纳米级别的图形结构。在清洗过程中，则是将已经制备好的光刻模板进行去胶和清洗，以确保模板表面干净、光滑，避免对后续工艺的影响。 掩模光刻胶处理设备通常由涂覆机、曝光机、显影机等组成。涂覆机主要用于将光刻胶均匀涂覆在模板表面，曝光机则用于光刻胶的曝光，显影机则用于将未曝光区域的光刻胶去除。针对不同的工艺需求，掩模光刻胶处理设备可以提供多种涂覆方式、曝光方式和显影方式进行选择。 掩模光刻胶清洗设备则主要分为两类，一类是化学清洗设备，采用化学溶解的方式将光刻胶去除；另一类是物理清洗设备，采用离子束轰击或等离子体清洗的方式将光刻胶去除，该种设备对于模板表面的损伤较小，并且清洗效果更加稳定。 综上所述，掩模光刻胶处理及清洗设备是微纳米加工中不可或缺的重要设备，它可以制备出高精度、高质量的光刻模板，满足微纳米级别的制造需求。