掩模制造设备

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掩模制造设备（Mask Manufacturing Equipment）是用于制造半导体掩膜的重要设备，是半导体工业中不可或缺的关键技术之一。掩膜是制造集成电路必不可少的组成部分，它是一种将图案投射到硅晶圆上的光学模板。掩模制造设备的主要功能是在掩膜板上生成电子线或激光器束，通过光学系统使得这些线或束在硅晶圆上形成所需的图案。具体来说，掩模制造设备包括掩模制作、图形检查、曝光和加工等功能模块，能够实现高分辨率和高精度的掩膜制作。 掩模制造设备是半导体工业中影响芯片制造质量和生产效率的重要技术装备之一。目前主要厂商有ASML、Nikon、Canon等。