离子研磨机

高质量全自动扫描电镜样品制样工具

◼ 离子束平台应用于扫描电镜样品制备 

➢ 快速的剖面切削 

➢ 表面细抛 

◼ SEMPrep2 系列： 

➢ 100ev 到16kev 高低能量离子枪可选择 

➢ 全球独家16kev超高能量离子枪做超快速切削应用 

➢ 数码式参数设定和自动操作 

➢ 通过Peltier制冷或液氮制冷保护样本受超负荷过热的影响 

➢ 可选择多种样品台适合各种大小的样品

SEMPrep2标准版

1. ☆加速电压：离子枪加速电压从2-16 keV连续可调。 

2. 离子束直径：300~600 um (FWHM)连续可调。 

3. 最大离子束电流密度：100mA/cm2。 

4. 电流大小：离子束电流150 uA。 

5. ☆最大抛削速度：对于c-Si标准样品在16keV, 30°入射角时具备有580um/h 的样品减薄能力。 

6. ☆平面样品搭载尺寸：至少可容纳33.5 x 9 mm样品。

 7. ☆截面样品搭载尺寸：使用90度专用截面切削样品载台，至少可容纳20 x 16 x 7 mm ( L x W x Thickness)样品。 

8. 样品倾斜角度：0°至30°，每0.1°连续可调。 

9. 样品旋转角度调节：360˚ 可变速样品旋转，角度速度连续可调。 

10. ☆样品加工摆角（振荡）：±10°至±120°，每5°连续可调。 

11. ☆操作系统：内置工业级PC并搭载预装Windows操作系統，操作方便简洁。 

12. 工作模式：智能式计算器控制并可根据客户需求切换不同用户模式：手动操作模式， 半自动操作模式以及 全自动智能操作模式,

并可储存操作参数用于之后调出使用。 

13. 真空抽气装置：移动式涡轮分子泵和无油多级隔膜泵，以达到无油式真空抽气系统避免样品遭油气污染。 

14. 真空测试：潘宁规。 

15. 光学放大：可配备分离式或整合式的观测样品光学显微镜，放大倍率需50~300倍或更高。