日本横滨理化消泡罐MF500
产品应用领域
半导体润遇设备
光刻胶、是影制、漂洗液、性刻液、去除液、清洗液、抗制南波星
产品概述
有效去除半导体制造工艺中使用的化学品和溶剂中的气泡和溶解气体。
化学溶液中所含的气泡和溶解气体，如光刻胶、显影剂、洗液、刻液、去除液、清洗液、抗铁刻较制商液等。
通过去除它，司以预期产品质量稳定性和产量提高等效果。通过有效去除控制化学品和溶剂的浓度和体积所不可或缺的气泡和溶解气体，实现精确的化学控制，
产品概述
有效去除半导体制造工艺中使用的化学品和溶剂中的气泡和溶解气体。化学溶液中所含的气泡和溶解气体，如光刻胶、是影剂、漂洗液、刻液、去除液、清洗液、抗刻放剥画液等。通过去除它，可以预明产品质量稳定性和产量提高等效果。通过有效去除控制化学品和溶剂的浓度和体积所不可或缺的气泡和溶解气体，实现精确的化学控制，环保目成本低。
·去除半导体制造领域存在的气泡，稳定质量，提高产量，防止麻烦。·有效去除干扰化学品和溶剂浓度和液体体积管理的气泡和溶解气体
低价氟化脱气模块(用于化学品和滘剂)高性能和低价格的N0.1!这是一个脱气模块。与传统的复基(PTFE)脱气模块相比，产品性能得到改善，价格低了40%该产品价格低廉，非常适合正在考虑使用除氧器的客户。
产品货期: 30天
整机质保期: 12月
培训服务: 安装调试现场免费培训
安装调试时间: 到货后5天内
电话支持响应时间: 1小时内
是否提供维保合同: 是
维修响应时间: 1天内
节假日是否提供上门服务: 是
柴田其它常用设备MF500 的工作原理介绍
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柴田MF500 多少钱一台?
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柴田其它常用设备MF500 的操作规程有吗？
柴田其它常用设备MF500 报价含票含运吗？
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