产地类别: 国产
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GVC-2000P磁控离子溅射仪采用平面磁控溅射靶头进行靶材溅射,以确保工作过程样品不会发生热损伤;采用ARM作为处理器,全自主知识产权,扩展性好,可选配。
一.GVC-2000P磁控离子溅射仪(镀金仪)主要特点
1、一键操作,具备工作完成提示音;
2、镀膜颗粒小,无热损伤;
3、靶材更换非常简单;
4、特殊密封结构,玻璃不易损坏;
5、内置操作向导,无需培训即可熟练操作;
二、GVC-2000P磁控离子溅射仪(镀金仪)技术参数
外形尺寸 | 420(L)×330(D)×335(H) | 溅射靶头 | 平面磁控靶 |
可用靶材 | Au、Pt、Ag、Cu等 | 靶材尺寸 | φ57×0.12mm |
真空室 | 高硅硼玻璃 ~φ200×130mm | 工作介质 | 空气或氩气 |
样品台 | φ125mm | 样品台转速 | 4-20rpm可调 |
真空泵 | 旋片泵(可选配干泵) | 抽速 | 1.1L/s |
真空测量 | 皮拉尼式真空规管 | 工作真空 | 4-20Pa |
极限真空 | ≤1Pa | 工作电流 | 0-100mA连续可调 |
显示屏 | 7英寸 800×480 彩色触摸屏 | 工作时间 | 1-999s连续可调 |
进气 | 自动 | 放气 | 自动 |
金颗粒尺寸(硅片喷金)
电池隔膜10万倍(喷铂)
三、GVC-2000P磁控离子溅射仪技术方案产品货期: 7天
整机质保期: 1年
培训服务: 额外提供免费培训
是否提供维保合同: 否
维修响应时间: 1天内
节假日是否提供上门服务: 是
核心零部件货期: 30天
核心零部支持时间: 12月
是否支持上门巡检: 否
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