仪器种类： 国产等离子体表面处理仪
射频频率： 40KHz
功率： 10-300W可调
设备尺寸： H38xΦ260mm
样品腔容积： 2L
样品腔材质： 316不锈钢、航空铝真空仓选择
工作气体： Ar、N₂、O₂、H₂、CF4、CF4+ H2、CHF3或其他混合气体等（可选）
控制方式： 质量流量计（MFC）
为您推荐相似的等离子体表面处理仪
CIF推出RIE反应离子刻蚀机，采用RIE反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学，科研院所、微电子、半导体企业实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。适用于所有的基材及复杂的几何构形进行RIE反应离子刻蚀。具体包括：
u 介电材料（SiO2、SiNx等）
u 硅基材料（Si，a-Si，poly Si）
u III-V材料（GaAs、InP、GaN等）
u 溅射金属（Au、Pt、Ti、Ta、W等）
u 类金刚石（DLC）
产品特点：
u PLC工控机控制整个清洗过程，全自动进行。
u 7寸彩色触摸屏互动操作界面，图形化操作界面显示，自动监测工艺参数状态，0~99配方程序，可存储、输出、追溯工艺数据，机器运行、停止提示。
u 手动、自动两种工作模式。
u 全真空管路系统采用316不锈钢材质，耐腐蚀无污染。
u 采用防腐数字流量计控制，标配双路气体输送系统，可选多气路气体输送系统，气体分配均匀。可输入氧气、氩气、氮气、四氟化碳、氢气或混合气等气体。
u 具备HEPA高效过滤气体返填吹扫功能。
u 符合人体功能学的60度倾角操作界面设计，操作方便，界面友好。
u 316不锈钢、航空铝真空仓选择。
u 采用顶置真空仓，上开盖设计，下压式铰链开关方式。上置式360度水平取放样品设计，符合人体功能学，操作更方便。
u 有效处理面积大，可处理z大直径200mm晶元硅片。
u 安全保护，仓门打开，自动关闭电源。
技术参数
型号 | RIE200 | RIE200plus |
舱体内尺寸 | H38xΦ260mm | H38xΦ260mm |
舱体容积 | 2L | 2L |
射频电源 | 40KHz | 13.56MHz |
电极 | 不锈钢气浴RIE电极，Φ200mm | 不锈钢气浴RIE电极，Φ200mm |
匹配器 | 自动匹配 | 自动匹配 |
刻蚀方式 | RIE | RIE |
射频功率 | 10-300W可调（可选10-1000W） | 10-300W可调（可选10-600W） |
气体控制 | 质量流量计（MFC）（标配双路，可选多路）流量范围0-500SCCM（可调） | |
工艺气体 | Ar、N?、O?、H?、CF4、CF4+ H2、CHF3或其他混合气体等（可选） | |
z大处理尺寸 | ≤Φ200mm | |
时间设定 | 1-99分59秒 | |
真空泵 | 抽速约8m3/h | |
气体稳定时间 | 1分钟 | |
极限真空 | ≤1Pa | |
电 源 | AC220V 50-60Hz，所有配线符合《低压配电设计规范 GB50054-95》、《低压配电装置及线路设计规范》等国标标准相关规定。 | |
当等离子蚀刻应用涉及使用氧气作为工艺气体时，出于安全原因，强烈建议使用Edwards爱德华真空泵 RV3双级旋片泵或类似的合成油旋转机械泵。因为Edwards爱德华RV3双级旋片泵在泵科学应用方面已成为行业标准。当然，在需要避免使用油基旋转机械泵的地方，也可选择干式真空泵。
保修期: 1年
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 有
免费培训: 有
免费仪器保养: 根据客户需求
保内维修承诺: 保期内免费更换零件
报修承诺: 24小时内响应
CIF表面处理仪RIE200/Plus的工作原理介绍
表面处理仪RIE200/Plus的使用方法?
CIFRIE200/Plus多少钱一台?
表面处理仪RIE200/Plus可以检测什么？
表面处理仪RIE200/Plus使用的注意事项？
CIFRIE200/Plus的说明书有吗？
CIF表面处理仪RIE200/Plus的操作规程有吗？
CIF表面处理仪RIE200/Plus报价含票含运吗？
CIFRIE200/Plus有现货吗？
