LK-JHW工业近红外显微成像系统
LK-JHW工业近红外显微成像系统

¥8万

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徕科光学

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LK-JHW

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中国大陆

  • 白金
  • 第15年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
400-806-0337
该产品已下架
核心参数

利用近红外(900~1700nm)波段相对可见光绕射及穿透能力强、作用在硅片(锗片)吸收率低的特点,可以实现对封装芯片及覆盖片晶圆的有效检测,

成功解决了传统工业显微镜无法对拥有覆盖片(硅片、锗片等)的芯片或晶元直接观测问题。

图1:硅片覆盖芯片

图2:

可见光成像无法看到内部


图3:

红外光成像可以看到内部效果

可以对SiP(System in Package:系统级封装)、CSP(Chip Size Package:芯片级封装)、三维组装等用可视观察无法看到的领域进行无损检查和分析。


售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 免费培训

免费仪器保养: 免费保养

保内维修承诺: 一年质保

报修承诺: 一年质保

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