大方科技固定污染源氨逃逸连续在线监测系统

固定污染源氨逃逸在线分析系统 

  针对固定污染源氨逃逸在线监测的技术要求，本产品结合大方科技在脱硝氨逃逸在线监测的丰富经验，研制开发环保型氨逃逸在线监测系统，专用于固定污染源氨逃逸的实时在线监测，并将数据实时传送至DCS。设备改变传统分体方式，采用一体化设计，占用空间小，安装维护方便，测量精度高，满足环保监管要求。

环保专用、经典技术和现代设计的结合

一、测量原理：

  系统采用可调谐半导体激光吸收光谱（TDLAS）技术进行NH3的测量，以可调谐激光器作为光源，发射出特定波长激光束，穿过待测气体，通过分析被测气体中NH3分子吸收导致的激光光强衰减，根据朗伯比尔定律，气体浓度与其吸收光强成比例关系，从而实现高灵敏快速精确监测待测气体中NH3浓度。因为激光谱宽特别窄（小于0.0001nm），且只发出待测气体吸收的特定波长，使得测量不受测量环境中其它成分的干扰，相比其它复合光源而言，具有极高的测量精度。

二、测量方案：

根据固定污染源氨逃逸测量点温度不高、测量浓度低、测量精度要求高等特点，方案沿用了大方科技经典的近位抽取+多反长光程测量池技术，并进行一体化设计，设备直接安装在烟道上，空间占用小。

系统由取样分析单元和仪表组成，一体化设计，安装于烟道上，烟气经采样探头取样后直接进入设备样气室进行测量分析，无须伴热管线。采用抽取方式可以避免烟尘和烟道振动等对测量的影响。近位抽取方式则避免了伴热管线传输造成的响应时间的影响。烟气流经管路及样气室全部采用高温加热，保证烟气取样过程中无氨气吸附。分析单元采用多次反射样气室，测量光程可达20米，可大大提高检测下限。

三、产品主要特点：

1.采用国际先进的可调谐半导体激光光谱技术，不受背景气体、粉尘等因素干扰，实现快速、准确测量；
2.抽取气体直接进入气室，不需要经过伴热管线，烟气接触的流路全程高温伴热无冷点，避免氨气吸附和损失，保证样气真实性；
3.内置标准气体参比模块，并且进行动态的补偿，实时锁住气体吸收谱线，不受温度、压力以及环境变化的影响，不存在漂移现象；
4.采用多次反射长光程测量技术，光程可达20米，极大地提高测量精度和检测下限；
5.模块化设计，开机预热后便可正常运行无需进行现场光路调试，安装调试灵活方便；
6.改变传统分体方式，采用一体化设计，占用空间小；
7.大方科技特有的样气室设计，专利技术，包含维护窗口，可以在不影响光路的情况下，对污染的光学器件进行清洁，让维护更加快速方便。

四、典型应用：

  电厂、水泥厂、玻璃厂、陶瓷厂、工业锅炉等企业固定污染源氨逃逸监测
  炼焦企业固定污染源氨逃逸监测
  化工厂固定污染源氨逃逸监测