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13.56MHz高频输出的等离子清洗机,搭载RIE·DP双模式
使用等离子的表面处理装置。着重于“使用简单”的台式 高性能型号,调取数据简单,以电子材料为中心,可对应 多种用途。
特征
● 可变更电极构造提高等离子效果。
● 搭载高精度适配器,高性能RF 电源。
● 可根据需求规格提供定制。
用途
● 硅晶圆的灰化及蚀刻
● 基板表面污垢处理
● IC/LED封装、BGA/CSP基板处理
● 半导体相关部品的电子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有机物去除
● 界面活性处理
● 表面污染物去除
内槽
规格
型号 | V1000 | V1000X | V1000XS |
等离子模式 | DP/RIE | ||
高频电源 | 13.56MHz | ||
输出功率 | Max1000W | Max1000 & 1500W | |
有效电极尺寸 | W280×D280mm | W300×D300mm | W400×D375mm |
电极 | 平行平板 | 2段电极(独立) | 平板(多目的) |
反应气体 | 聚合控制器2系统(填充气路另行安装) | ||
真空泵(标配) | 约1000L/min | 约1500L/min | 1000 & 1500L/min |
安全装置 | 门检测开关、联锁机构、紧急停止开关、温度过升防止器等 |
管路连接图
保修期: 1年
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 无
免费培训: 无
免费仪器保养: 无
保内维修承诺: 正常使用情况下免费提供更换零部件
报修承诺: 及时维修
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