Holoor DOE专用掩膜

Holoor DOE专用掩膜

高功率掩膜（DOE专用掩膜）——用于精密控制大功率激光的孔径，它的结构是在玻璃基板上镀有一层很薄（~1μm）的图案反射涂层。

HOLO/OR已经开发了一系列投影掩模，以满足在UV-VIS光谱中具有很高功率的激光源使用此类掩模的需求。这些掩模具有两种不同的形式：电介质反射掩膜具有阻挡不需要的光的反射涂层，而透射成像掩模模则使用了衍射图案，该衍射图案将这种不需要的光以大角度散射。

典型参数

电介质反射掩膜

电介质反射掩膜是熔融石英衬底，其上涂有非常薄（～1um）的反射涂层。涂层部分反射入射光束，而未涂层部分透射光束。

典型应用

●大功率系统的微图案投影

Micro patterns projection for high power systems

●紫外线光刻

UV lithography

光学系统示意图：

图1.  典型设置

HOLO / OR可以设计和制造定制的电介质反射掩膜以满足客户的需求。

图2.用显微镜放大倍数对定制电介质反射掩膜的真实测量

电介质反射掩膜的特点

●高损伤阈值

High damage threshold

●低吸收

Low absorption

●反射部分的高反射率（> 99％）

High reflection (>99%) in reflective part

●透明部分的透射率高（> 95％）

High transmission (>95%) in transparent part

●极薄的介电反射层（～1 um）

Very thin dielectric reflective layer (~1 um)

透射成像掩模

透射式掩模的特点是透射全部入射光，没有任何阻挡，透射掩模使用衍射图案以大角度漫射不需要的波段。

工作原理

中心有一个和反射式掩膜类似的透明区域，光线直接透过，周围区域具有衍射图案，使不需要的入射光以大角度出射。配合聚焦镜后焦平面放置的小孔，就可以阻挡大部分漫射光，从而达到阻挡多余激光的效果。

光学系统示意图

透射成像掩模的特点

●无反射光危险，不会损坏光学系统

No danger of reflected light causing damage to optical system

●约100％传输

~* transmission

●激光损伤阈值高于反射罩

Higher laser damage threshold than for reflective mask

●价格合理，与其他衍射元件相似

Affordable price, similar to that of other diffractive elements

透射掩模元件

测量强度

标准产品

※For a quotation of an above Part Number, please specify the wavelength used.