¥10万 - 30万
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CHC-CHA-3
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美洲
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漫反射光谱是检测粗糙材料表面变化的一种非常敏感的方法。它对于具有高表面积的粉末特别有效。这使得漫反射对于异质催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的研究非常宝贵。此低温反应室非常适合在精心变化的温度和压力下进行此类研究。这些低温反应室允许在广泛的受控温度和压力下进行漫反射测量,并与 FT-IR 和 UV-Vis 漫反射光谱的祈祷万只龙头附件结合使用。
设计用于从高真空(133 μPa 或 10-6 torr)到 133 kPa (1 ktorr) 和 -150°C 至 600°C(真空下)的低温。
提供三个入口/出口口,用于疏散电池和引入气体。
由耐化学腐蚀的316不锈钢制成。
反应室
低压加热盒。
K型热电偶。
样品包装工具和溢出托盘。
带两个 KBr 窗口和一个玻璃观察窗口的圆顶(FTIR 配置)
带两个 SiO2 窗口和一个玻璃观察窗的圆顶(UV-Vis-NIR 配置)
| MODEL NO. | NAME | |
|---|---|---|
| CHC-CHA-3 | Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers (FTIR) | |
| CHC-VUV-3 | Praying Mantis™ Low Temperature Reaction Chambers (UV-Vis-NIR) |
美国Harrick Praying Mantis反应室 HVC高温反应室 CHC-CHA低温反应室 HVC-MRA-5拉曼高温反应室
美国Harrick Praying Mantis反应室主要应用：在压力和温度控制范围内，允许漫反射测试，必须配套Praying Mantis漫反射附件
美国Harrick Praying Mantis反应室两种模式可选：
1、高温反应室(HVC)：操作压力从真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作温度可高达910℃ (在真空条件下)。可选配高压穹顶加压至3.44MPa(25.8 ktorr)。
2、低温反应室(CHC-CHA)：操作压力从真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作温度从-150℃至600℃ (在真空条件下)。
美国Harrick Praying Mantis反应室主要特点：
左右两个进/出气口，中间一个抽真空口
316不锈钢耐化学腐蚀
低压加热筒
K型热电偶
穹顶含有两个透红外光窗片和一个石英观察窗片
CHC-CHA低温反应室 HVC-MRA-5拉曼高温反应室 HVC高温反应室 低温反应室 高温反应室
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 免费提供产品培训及安装
免费仪器保养: 质保期内，供方为检修设备发生的所有费用由供方承担
保内维修承诺: 供方免费质保1年，厂家终身维修并保证零配件供应
报修承诺: 若设备发生问题，对相关的技术问题能在24小时内及时进行响应，供方可通过电话、传真
光学仪器组件CHC-CHA-3的工作原理介绍
光学仪器组件CHC-CHA-3的使用方法?
CHC-CHA-3多少钱一台?
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