高光谱纳米显微成像系统
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高光谱纳米显微成像系统

¥200万 - 500万

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Plexithermo

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NANO 系列

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欧洲

该产品已下架
核心参数

有高空间分辨率和光谱分辨率。完全集成的系统可快速映射VIS-NIR-SWIR光谱范围内的漫反射,透射率,光致发光,电致发光和荧光。基于高通量全局成像滤波器,NANO HNI比基于扫描类型光谱仪的高光谱系统更快,更高效。


NANO HNI的使用: 

u 可在400至1700 nm范围内成像,带宽为3 nm,能够测量光电特性,如电压开路和外量     子效率,并可对材料中的缺陷进行准确的检测和表征可进行复杂的材料分析,如太阳      能电池特性以及半导体质量控制,如钙钛矿, 砷化镓, SiC碳化硅, CIS, CIGS 等; 

u检索暗场图像,并获得透明和未着色样品(比如聚合物,晶体或活细胞)的对比度;  

u研究包括活细胞和组织在内的复杂的环境的红外标记。以第二生物窗口中发射的红外荧光团的光谱异质性为例。

产品优势

 ?快速全局映射(非扫描) 

 ?高空间和光谱分辨率完整系统  (光源、显微镜、照相机、过滤器、软件)

 ?无损分析  

 ?可根据客户具体要求定制 

 ?在可见光范围内灵敏度为400至1200纳米,在SWIR范围内灵敏度为900至1700纳米。


                        技   术    参  数

光谱范围

       HNI     

     400-1000 nm

           HMI

       900-1620 nm

光谱分辨率

      < 2.5 nm

           < 4 nm

相机

CCD, EMCCD, sCMOS

InGaAs Camera

波长激发(最多3个激光)

405, 447, 532, 561, 660, 730, 785,   808 nm

显微镜

正置或倒置,科研级别

空间分辨率

亚微米-受显微镜物镜的限制

最大样品尺寸

10 cm x 10 cm

X, Y 行程范围

76 mm x 52 mm











售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 2人次免费培训

免费仪器保养: 半年一次

保内维修承诺: 质保期内免费维修替换原厂零件

报修承诺: 6小时电话响应,10小时到现场

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