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MultiPrep™系统适用于高精密(金相,SEM,TEM,AFM等)样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光,精确角度抛光,定点抛光或几种方式结合抛光;它解决了操作者之间的不一致性,提供可重复的结果,而不管他们的技能如何; MultiPrep 无须手持样品,保证只有样品面与研磨剂接触。
双测微计(倾斜度和摆动度)允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整;精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。
数字指示器可以量化材料的去除率,可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡,能够最大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制,扩大了其从小样品(易碎样品)到大样品的全方位处理能力。
常见的应用包括并联电路层级,横截面,楔角抛光等
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