Microhezao GVC-1000
Microhezao GVC-1000

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GVC-1000

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核心参数

   MicroHezao GVC系列是全自动可编程的溅射仪,该系列产品拥有优秀的溅射系统,可以更换不同的金属靶材(金,铂,银,铱,铬,铜等),实现高要求的细粒涂层。GVC系列为您提供优质的样品制备,轻松助您取得更好地材料研究样品,获得高质量的显微镜观结果。MicroHezao电镜制样技术团队,为您提供全套解决方案。

  真空离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择,以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。在结构设计秉承人体工学设计理念设计,紧凑及经典的外观设计和更小的桌面占用面积为您大大节约了实验室空间.人机界面方面更加注重人性,简单智能,触摸屏,一键控制。

  对于SEM样品常规适用黄金溅射,GVC-1000提供了一个低成本的解决方案,同时可以通过更换不同的靶材(金、铂、铱、银、铜等),以达到更细颗粒的涂层。同时通过智能的人机界面精确、简单、方便控制仪器,同时具有估算镀层厚度,实时显示真空度,溅射电流。设定溅射时间。以及靶材的剩余情况GVC-1000是专用于扫描电镜(SEM)的样品喷金仪器,能够极为有效的提供样品的导电性及导热性,确保恒沉积速率,减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤.显著提供扫描电镜观测结果。

系统特点:

○ 仪器采用微处理器控制,自动化程度高精确控制、易于操作;

○ 5英寸彩色触摸屏,可实时显示真空度、溅射电流、设定溅射时间、剩余溅射时间、膜厚估算等;

○ 可溅射金、银、铜、铂等常用靶材;

○ 实时显示设备运行时间、靶材使用时间,方便了解设备情况;

○ 内置过流、真空保护,在溅射电流过高或真空较差时自动中断,安全可靠;

○ 高灵敏度微调阀,可精确控制气体流量;

○ 靶材组件采取翻盖式设计,操作简洁、方便;

○ 内置用户使用向导和说明书,方便用户操作。

指 标 参 数 

外形尺寸: 424× 290 ×265 (mm) 工作电压: 200-240VAC 50Hz

                       溅射电压: DC2400V                      控制模式: 微处理器控制 

                       最大功率: 500W                             溅射电流: ≤30 mA                                                              溅射时间: ≤600s                            极限真空 : 0.1Pa 

                       工作真空: ≤30Pa                            膜层厚度: 内置膜厚估算(金靶)                                        真空测量: 电阻规                            真空速率: <2L /s


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