仪器种类: 在线式
产地类别: 进口
检测气体: NH3,HCL,HF等
响应时间: 5s
测量精度: 0.01ppb
测量量程: 0.1ppb~10000ppm
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猎户座3100系统:完善的空气分子污染物(AMC)监测
实时监测空气分子污染(AMC )对于半导体生产过程极为重要。
快速监测、报警、极低浓度测量、宽测量区域、多气体的高灵敏响应等是半导体工业要求之一。深紫外光刻工艺特别关注氨、胺类、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸类等浓度测量,当这些气体与化学放大光刻胶反生反应 时,将深深的影响半导体器件质量。
传统古老的方法多采用间接测量分析方法。包括撞击滤尘器、离子色谱、化学荧光法,这些方法分析速度太慢,操作过程太复杂,昂贵并且测量结果不精确。
CEAS (腔增强吸收光谱)---原理
基于CEAS(腔增强吸收光谱)技术的仪器原理图,使用近红外波段光进行高灵敏度吸收测量,测量腔室由一组高反射率多次反射镜片组成的柱状体构成,激光束经过固态校准器(FSR=2.00GHz)时会测量得到相对激光波长。为了保证清晰度,忽略了原本照射到左侧测量单元腔镜外的光束。
EP增强型版本集成了压力传感器和内部温度控制器,具有超稳定性测量腔室,防止温度漂移、压力变化等造成的误差。
CEAS(腔增强吸收光谱)相比于第一代的CRDS(腔衰荡光谱)技术,有许多已被证明的优势。简而言之,激光束不需要 共振耦合进入测量腔室(例如光束不需要严格对准)。DUKE分析仪器和系统具有天生安装简单、机械牢固、防护结实等特点。
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 技术人员上门培训
免费仪器保养: 半年1次
保内维修承诺: 免费维修,更换零件(不是人为损坏)
报修承诺: 24小时内技术电话回复,3天内上门维修
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