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Optometrics
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金刻蚀光栅
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美洲
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金刻蚀光栅
该系列光栅主要用于高功率以及高效率的应用。
我们在金材料上设计和刻蚀光栅，用于红外波段（4～12微米）的激光应用。金光栅特别适合于追求高效率红外激光应用。在高功率应用中，为了避免高功率激光打坏光栅，通常都要在光栅上镀一层铝。该系列光栅的基质是不胀钢或者陶瓷。如果您希望用其他基质，可以和顶尖公司联系。
产品特点：
●在特殊基质上刻蚀的金层可以用于4～12微米的应用。
●在铜基质上铝层刻蚀出来的是标准的分子激光光栅。
线密度g/mm | 70～ 450 |
工作范围(μm) | 4～12 |
基质 | 铜，不胀钢，陶瓷，硅 |
通光孔径 | 90% |
划线与边缘的平行度 | ± 0.5° |
尺寸公差 | ± 0.5 mm |
厚度公差 | ± 0.5 mm |
典型峰值效率（偏振） | ≥95% |
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光学仪器组件金刻蚀光栅的使用方法?
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