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NanoCalc是一种用户可配置的膜厚测量系统。膜厚系统光谱仪精确地测量光学或非光学薄膜厚度，可广泛应用于半导体、医疗和工业生产中。
利用白光干涉测量法的原理，NanoCalc用一个宽波段的光源来测得不同波长的反射数据，由于反射率n和k随膜厚的不同而变化，NanoCalc根据这一特性来进行曲线拟合从而求得膜厚。在NanoCalc中，不同类型材料的相应参数通过不同的模型来描述，从而保证了不同类型材料膜厚测量的准确性。NanoCalc的膜厚测量范围为1nm到1mm，只要待测材料有一定的透射或反射就能通过NanoCalc进行膜厚测量，这些材料包括氧化物、氮化物和保护膜层等，通常这些覆膜的基地材料包括硅晶片或玻璃灯。
1nm以上的金属膜厚也能测量，只要不是完全不透光的。对于已知的系统，3层以内的多层膜厚测量可以在不到一秒钟时间内完成。
通常拟合曲线和实际曲线由于干涉会引起一些差异，NanoCalc的算法充分考虑到了这一点，从而可以在比较粗糙的表面进行测量。
产品主要优势和特点
UV/VIS/NIR高分辨率的配置
测量准确度在1nm，精度在0.1nm
可测量最大10层薄膜
膜厚测量最小可至1nm，最大可至1mm
可测量最小1nm厚的透明金属层
提供试验台及附件用于复杂外形材料的测量
对表面缺陷和光滑度不敏感
庞大的材质数据库，保证各种材料的精确测量
快 速： | 每次测量只需轻点一下鼠标，测量结果立即呈现在显示屏上，不到一秒钟。应用于在线模式下，可接受到采样信号后，立即测量。 |
准 确： | 分辨率0.1nm，重复性0.3nm，绝对准确度优于1%，并且还有数百种材料组成的庞大材料库，帮助您准确分析您的薄膜。同时NanoCalc为光学测试系统，无任何运动部件，不会由于多次测量产生回程误差等机械运动误差，可长时间稳定工作。 |
无 损： | 光学无损检测，无需像台阶仪、SEM等需破坏样品进行测量。 |
灵 活： | 重量约为3.5kg，体积为180*150*263mm，USB连接方式，自适应90-240V的电压，携带方便，安装简单，可任意放置于实验室、生产线甚至办公桌上使用。拥有多种特种配件，可适用如非平面测量，显微测量，mapping等特殊要求。 |
易 用： | 软件界面直观，操作简便，用户体验出色。无需专业知识以及复杂的技术培训，预先设置好测试配方后，每次重复调用即可。 |
性价比高： | 相对于传统膜厚测量设备，NanoCalc拥有非常高的性价比。 |
应用领域
半导体 SiO2 光刻胶 SOI等 |
LCD/TFT/PDP 液晶盒厚 聚亚酰胺 ITO等 |
LED SiO2 光刻胶 ITO等 |
触摸屏 ITO AR Coating 反射/透射率测试等 |
汽车 防雾层 Harding Coating DLC等 |
医学 聚对二甲苯涂层 球囊/导管壁厚 药膜等 |
太阳能 TCO CIGS CdS/CdTe A-Si等 |
聚合物薄膜 PET PC 亚克力等
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眼镜 AR Coating Harding Coating
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技术参数
| 产品型号 | NanoCalc-VIS | NanoCalc-XR | NanoCalc-DUV |
| 波长 | 350-1000nm | 250-1100nm | 200-1100nm |
| 厚度范围 | 50nm-100um | 10nm-100um | 1nm-100um |
| 产品型号 | NanoCalc-NIR | NanoCalc-VIS-NIR | NanoCalc-XR-NIR |
| 波长 | 900-1700nm | 350-1700nm | 250-1700nm |
| 厚度范围 | 100nm-250um | 50nm-150um | 10nm-250um |
| 分辨率 | 0.1nm | ||
| 可重复性 | 0.3nm | ||
| 绝对准确度 | <1%（50nm-100um） | ||
| 层数 | 1~10层 | ||
| 距光纤距离 | 1~5mm | ||
| 距镜片距离 | 5-100mm | ||
| 入射角 | 90°通常 | ||
| 光斑大小 | 400um | ||
| 显微光斑大小 | 1-20um | ||
| 光纤长度 | 2m（可定制） | ||
| 通讯接口 | USB/RS232 | ||
| 功耗 | 12VDC,1.2A | ||
| 电源 | 90-240VAC 50/60HZ | ||
