岩征YZUV-22C紫外臭氧清洗机

产品详情

岩征仪器 光清洗机是一种不需要任何的溶剂的干式清洗技术，同时对清洗表面没有损伤。

采用岩征公司专业研发的大功率低压石英汞灯,产生185nm和254nm波长紫外线，去除石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等大多数无机基材上的有机污染物。

岩征仪器 光清洗机提供一种高效、精密的清洗方式，也是表面改性的一种非常重要的技术。应用于：表面处理、有机物清洗、改善表面亲水性、降低表面接触角、增加表面附着力、增强表面功函数等。

岩征仪器 光清洗机8大特点：

1、可调节样品台与UV灯距离。

2、长寿命的低压汞格栅灯,灯管寿命大约为5000小时.

3效率更高-岩征特制的大功率低压石英水银灯让清洗只需3-5分钟即可达到原子级洁净度。

3、更安全-清洗腔体打开时自动关闭UV灯，避免对人体产生伤害。

4、更坚固美观-全不锈钢拉丝设计。

5、节省空间-控制与反应腔体一体化设计，美观节省空间。

6、操作简单-内置微电脑控制器，让操作更简便，只需几下按钮即可完成清洗过程。

7、提供客户化定制方案-可定制真空反应腔和加热样品台。

岩征仪器 光清洗机参数表：                                                                                                                       

型号：YZUV-22C                                                                                                                                       

光照尺寸：20CM*20CM（8inch）                                                                                                          

灯管材质：固态金属双波汞格灯                                                                                                                 

光源功率：250W                                                                                                                                      

UV波长：同时产生253.7nm,184.9nm紫外波长                                                                                         

 灯管使用寿命：约5000小时                                                                                                                       

结构：箱体一体化不锈钢结构                                                                                                                   

电源:220V/50hz                                                                                                                                          

臭氧排气系统：有臭氧排气系统                                                                                                                  

安全防护功能：带误操作自动保护功能                                                                                                         

 设备重量：28kg                                                                                                                                            

应用邻域：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理，液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等有机物去除，有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。还能对特定材料进行表面改性，增加浸润性。