面议
考夫曼
暂无样本
RFICP 200 HO
--
美洲
KRI 考夫曼离子源 RFICP 200 HO
KRI Ion Source RFICP 200 HO 是一款大型的有栅极离子源，能够产生高密度的离子束，特别是在 1000 eV 或稍低的能量下获得极高密度的离子束，因此合适于像离子辅助沉积和离子束刻蚀这样的低能量的工艺。因为尺寸的大型化，使它更适用于较大覆盖区域和较高均匀性的要求，因此广泛应用在大型离子辅助的盒式镀膜机和较大尺寸 wafer 的离子刻蚀系统。
KRI Ion Source 有栅极离子源RFICP 200 HO, Gridded RF Ion Source产品规格
Model | RFICP 200 HO |
Discharge | RF inductive |
Filamentless | Yes |
RF power | >1 kW |
Ion optics | OptiBeamTM |
Grids | Application specific |
Alignment | Self-aligned |
Neutralizer | Yes (options) |
Power controller | RFICP ion Power Pack |
Options | |
Beam Shape | Collimated, convergent, divergent |
Water cooled | Yes |
若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :
上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王女士
T: T:
F: F:
M: M:
伯东版权所有, 翻拷必究!
产品货期: 365天
整机质保期: 1年
培训服务: 提供付费培训
考夫曼其它行业专用RFICP 200 HO的工作原理介绍
其它行业专用RFICP 200 HO的使用方法?
考夫曼RFICP 200 HO多少钱一台?
其它行业专用RFICP 200 HO可以检测什么？
其它行业专用RFICP 200 HO使用的注意事项？
考夫曼RFICP 200 HO的说明书有吗？
考夫曼其它行业专用RFICP 200 HO的操作规程有吗？
考夫曼其它行业专用RFICP 200 HO报价含票含运吗？
考夫曼RFICP 200 HO有现货吗？
