美国菲利浦薄膜沉积控制仪（晶控仪）

薄膜沉积控制仪

Quark^TM Rack Mounted Deposition Controller

全集成石英晶体薄膜沉积控制器

菲利浦质子科技通过前沿的频率-温度补偿技术带来了高分辨率的薄膜沉积控制系统,标准的19英寸机械安装架和多功能的触屏显示器。

整合了Nucleus Plus^TM 技术，薄膜沉积控制仪在模块化的基础上建立了温度测量薄膜

控制系统。支持扩展4个输入输出口和探头（2个标准仪器），实时的频率-温度曲线

和500℃操作晶体。传统的检测和测量手段由于忽视了晶体温度的变化带来了极大的

误差，通常误差为10%，在错误的环境下误差可以为100%。菲利浦通过监测实时的温

度变化，从而对薄膜进行高精度极低误差控制。

薄膜沉积控制仪有非常高的稳定度和菲利浦产品惯有的精密度。6MHz（AT or RC

）的石英晶体前所未有的应用在了薄膜沉积领域。

功能齐全

可扩展的额外组件比如前面板的外部控制界面和后面板的探头、I/O卡。Millennium 控制系统包含一个过温控制继电器（以防探头冷却失灵）和输入/输出的可编辑性，给您全部的软件功能控制。

技术参数

探头2个BNC 连接端（需要外部振荡器）

温度2 type K TC

输入源2 0-5 VDC 输入控制

继电器（不可编辑） 2个单刀单掷开关

输入端（可编辑） 8个独立的5V输入端

输出端（可编辑） 8个5A单刀单掷开关继电器

远程电源手动电源控制-前面板FOB连接头

可扩展输入源卡2个输入源、探头、继电器和type K TC

输入：8个独立的5V输入端

输出：8个5A单刀单掷

DAC 记录器可根据用户的选择出发

参数用户可以扩展 0-5V输出速率和厚度

测量参数

频率分辨率0.001Hz@6MHz(1s一个点）

采样率0.5Hz to 100Hz

传感器晶体频率5,6,7,8,9,10MHz

显示参数

厚度（自动量程） 9999.9 to -999 kA

速率 (自动量程) 9999.9 to -999 A

电源00.00 to 99.99%

时间0 to 99:59:59 HH:MM:SS

层数0 to 999

屏幕800x480 Full Color Touch Screen

标准硬件

可扩展I/O卡

连接参数

标准方式：RS232  USB(Process Programming)

可选方式：以太网

创建程序：所有程序可以通过触摸屏和键盘编辑CactusProg 

可以在PC上创建菜单并可以通过U盘等闪存转移性能无限制的操作选项和编程

性能     无限制的操作选项和编程

标准参数

PTTC-RM QUARK主机+1个探头+1个输入输出口

PTTC-RM2 QUARK主机+2个探头+1个输入输出口

PTTC-RM4 QUARK主机+2个探头+2个输入输出口

PTTC-RME1 QUARK主机+1个探头+2个输入输出口+以太网

PTTC-RME2 QUARK主机+2个探头+1个输入输出口+以太网

PTTC-RME4 QUARK主机+2个探头+2个输入输出口+以太网