X射线荧光镀层测厚仪，涂层镀层测厚仪

从下往上

XUL

一款适合电镀厂测量镀层厚度的性价比高的仪器，它配备了一个固定的准值器和滤，射线管出射点稍大，非常适合测量点在1mm以上的应用。对于测量典型电镀层厚度的应用，如Cr/Ni/Cu等，非常合适。

PC

标准

1

1（Φ0.3）

是

XULM

多用途的镀层厚度测量仪。无论是薄的还是厚的镀层（如50nm Au或100um Sn）都通过选择好的高压滤片组合很好的测量。微聚焦管可以达到在很短的测量距离内小到100um的测量点大小。高达数kcps的计数率可以被比例接收器接收到。

PC

微聚焦

3

4（0.05*0.05-Φ0.3）

是

XAN110/120

专门为分析金合金开发的划算的仪器。比较XAN而言，只有一个固定的准直器和固定的滤片，特别适合贵金属分析。XAN 110配备比例接收器，适于几种合金元素的简单分析。XAN120配备了半导体接收器，更可以应用于多元素的复杂分析。

PC(XAN 110)

PC(XAN 120)

标准

1

1（Φ0.3XAN110）

1(Φ1XAN120)

否

XAN

分析专用仪器，测量方赂从下到上。用途广泛。测量室全封闭，可以使作大准直器分析，高计数康可也可被硅漂移探测器处理。激发和辐射检测方式与XDV-SDD相同。它是金合金分析和塑料中有害物质衡量分析的理想仪器。

PIN

SDD

微聚焦

3/6

4（Φ0.2-Φ2）

否

从上往下测量

XDL

适合镀层厚度测量的耐用仪器，即使大测量距离也可以测量（DCM，范围0-80mm）配备一个固定的准值器和固定的滤片。适合测量点在1mm以上的应用；跟XUL类似。可选 用自动测量的可编程工作台。

PC

标准

1

1（Φ0.3）

是

XDLM

比XDL适用面更广，配备微聚焦管，4个可切换的准直器和3个基本滤片。测量头与XULM想似；适合于测量小的结构如接插件触点或印刷线路板，也可以测量大的工作（DCM,范围0-80mm）

PC

微聚焦

3

4（0.05*0.05-Φ0.3）

是

XDAL

与XDLM类似但配备了半导体接收器。这样就可能可以分析元素和测量超薄层（基于良好的信噪比）。比较适合测量结构较大的样品。

PIN

微聚焦

3

4（Φ0.1-Φ0.6）

是

XDC-SDD

适合于全部应用的高端机型。根据测量点大小和光谱组成，激发方式灵活多样。配备了硅漂移接收器，即使强度高达>100kcps的信号也可以在不损失分辨率的情况下处理。

SDD

微聚焦

6

4（Φ0.1-Φ0.3）

否

SDV-U

专用微观分析的测量仪器。根据X射线光学部件的不同，可以分析小到100um或更小的结构。强度很高所以精度也非常好。即使很薄的镀层，测量不确定性小于1nm也是可能的。仅适于测量表面平整或接近平整的样品。

SDD

微聚焦

4

多毛细管系统

是

XDV-Vacuum

具备综合测量能力的通用高端机型。与XDV-XDD相当。但可外配备了可抽真空的测量室，这样就使得分析从原子序数Z=11(Na)开始的轻元素成为可能。高精度的马达驱动的XYZ平台和视频摄像头可以精确定位样品位置和测量细小部件。

SDD

微聚焦

6

4（Φ0.1-Φ3）

否

在线测量

X-RAY 4000

用于生产过程中薄膜，金属带或穿孔带的连续测量。测量头可以装配与样品传送方向的直角的位置。操作方便，启动迅速。

数据接口可集成到质量管理或控制系统

X-RAY54000

用于生产线上连续测量的法兰式测量头。测量带状物，薄膜或玻璃的金属元素。在空气和真空都可以测量。提供水冷版本仪器。