C11295 多点纳米膜厚测量仪
C11295型多点纳米膜厚测量系统使用光谱相干测量学，用以测量半导体制造过程中的薄膜厚度，以及安装在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量，也可以在膜厚测量中同时测量反射率（透射率）、目标颜色以及暂时变化。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！
特性
多达15点同时测量
无参照物工作
通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量
提醒及警报功能(通过或失败)
反射(透射)和光谱测量
高速、高准确度
实时测量
不整平薄膜精确测量
分析光学常数（n,k）
可外部控制
参数
| 型号 | C11295-XX*1 |
| 可测膜厚范围（玻璃） | 20 nm to 100 μm*2 |
| 测量可重复性（玻璃） | 0.02 nm*3 *4 |
| 测量准确度（玻璃） | ±0.4 %*4 *5 |
| 光源 | 氙灯 |
| 测量波长 | 320 nm to 1000 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*4 |
| 工作距离 | 10 mm*4 |
| 可测层数 | 最多10层 |
| 分析 | FFT 分析，拟合分析 |
| 测量时间 | 19 ms/点*7 |
| 光纤接口形状 | SMA |
| 测量点数 | 2~15 |
| 外部控制功能 | Ethernet |
| 接口 | USB 2.0（主单元与电脑接口） RS-232C（光源与电脑接口） |
| 电源 | AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 约330W（2通道）~450W（15通道） |
*1：-XX，表示测点数
*2：以 SiO2折射率1.5来转换
*3：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差
*4：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率
*5：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中
*6：卤素灯型为C11295-XXH
*7：连续数据采集时间不包括分析时间
滨松其它计量仪器C11295的工作原理介绍
其它计量仪器C11295的使用方法?
滨松C11295多少钱一台?
其它计量仪器C11295可以检测什么？
其它计量仪器C11295使用的注意事项？
滨松C11295的说明书有吗？
滨松其它计量仪器C11295的操作规程有吗？
滨松其它计量仪器C11295报价含票含运吗？
滨松C11295有现货吗？
