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台式等离子蚀刻机/灰化系统,适用于多种多样的样品材料和工艺气体。
Plasma Prep III是Plasma Prep系列产品的*新成员。该系统加入了固态技术,包括一体式真空计。该系统采用低成本设计,比如只设单一气体进口。添加选配的工艺控制模块可以扩展系统的功能,实现多种气体*混合,并且当工艺完成时,可以自动关闭系统。
典型应用领域:
? 电子显微观察样品制备
? 替代湿法化学蚀刻
? 去除光阻残留物
? 去除有机污染物
? 孔眼清洗
? 石棉分析
? 失效分析
系统规格:
? 13.56 MHz射频等离子体(RF plasma)
? 桶式设计反应室
? 功率可调节,从1到100瓦
? 一体式真空计
? 尺寸:12″宽×15″深× 10.5″高
(31 cm宽×38 cm深×27 cm高)
? 反应室尺寸:4″直径×6″深
? 获得CE认证,符合RoHS
系统包括:
? Plasma Prep III
? 派热克斯玻璃或石英反应室
? 真空软管(NW 16)
? 电线
场所要求:
? 工艺气体:5磅/平方英寸(表压)
? 真空泵
? 电力:100 V to 240 V, 50/60 Hz
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