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ppb/ppm级痕量气体测量
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独立系统，无需第三方软件
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紧凑的4U架式安装机体
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操作简单的电子平台
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因特网远程控制和监测
规格说明：
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检测器类型：等离子发射检测器（PED），氦气或氩气作载气
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气体管路：全不锈钢，钝化或电抛光
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最低检测限：1ppb，视应用而定
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重复性：±1%FS~±5%FS，取决于所选配置和所测量杂质
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样品气流量：0~50标准毫升每分钟（视应用而定）
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样品气压力：10~20psig（视应用而定）
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载气流量：通常为30~60标准毫升每分钟（全量程为10~175标准毫升每分钟）
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载气压力：建议100psig
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能耗：150瓦（视应用而定）
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电源供电：115VAC，50~60Hz，或220VAC，50~60Hz
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重量：11~27千克
标准特点：
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配置简单，独立操作
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显示：高分辨率TFT彩色LCD，带CCFL背光
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4~20mA输出信号
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远程量程识别触点（视应用而定）
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干触点——系统状态，2路报警
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电子PID控制系统控制载气和样品气流量
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机壳温度调节，消除温度漂移（环境温度15~30摄氏度）
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因特网或以太网控制软件远程控制分析仪
可选特点：
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报告监测软件：在计算机上监测色谱图和K4000计算出的过程结果，软件采用因特网或以太网连接，也可生成统计数据和历史数据
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快速检查配置：当背景气和载气相同时，快速检查功能可以确定总气体纯度，混入所有杂质的样品气经过色谱分离柱旁路，基于基线的改变幅度可计算出气体总杂质含量
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远程启动数字输入
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2路隔离的模拟输入
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2路隔离的数字输入
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1路干触点
应用情况：
K4000是可根据实际应用定制的基本主机。分析部分可以设置成并行分析。单一的4U架式分析仪配置即可满足许多应用需要，机体结构紧凑。常见应用如下：
背景气
杂质 H2 O2 N2 Ar He
H2 不可以 可以 可以 可以 可以
O2 可以 不可以 可以 可以 可以
N2 可以 可以 不可以 可以 可以
Ar 可以 可以 可以 不可以 可以
CH4 可以 可以 可以 可以 可以
CO 可以 可以 可以 可以 可以
CO2 可以 可以 可以 可以 可以
NMHC 可以 可以 可以 可以 可以
