AXIC低温低损伤等离子体增强化学气相沉积(ICP PECVD)图片
本图片来自上海麦科威半导体技术有限公司提供的AXIC低温低损伤等离子体增强化学气相沉积(ICP PECVD)，型号为 BenchMark 800的埃斯科半导体行业专用仪器设备，产地为美洲美国，属于品牌，参考价格为面议，公司还可为用户供应高品质的激光加热基座晶体生长炉 法国Cyberstar、气氛开尔文探针系统KP等仪器。
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