本图片来自南通宏腾微电子技术有限公司提供的ICPECVD等离子沉积设备SI 500 D,型号为SI 500 D的德国SENTECH半导体行业专用仪器设备,产地为欧洲德国,属于品牌,参考价格为面议,公司还可为用户供应高品质的无液氦低温强磁场扫描探针显微镜、低温真空微探针台MPS等仪器。
南通宏腾微电子技术有限公司是仪器信息网的银牌,合作关系长达2年,工商信息已通过人工核验,获得仪信通诚信认证,
宏腾微电子设备客服电话:400-860-5168转6134,请放心选择!
查看 ICPECVD等离子沉积设备SI 500 D 信息
同类推荐
看了null的用户又看了
EVG620 单面/双面光刻机(带有压印功能)
少子寿命测试仪Sentech光伏测量仪MDPspot
SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版
PICOSUN原子层沉积P-300B
PICOSUN原子层沉积系统 R-300 Pro
Beneq 原子层沉积 TFS 2OO
BENEQ 原子层沉积系统 TFS 500
BENEQ 原子层沉积系统ALD P400A
Beneq P400A & P800 原子层沉积系统
Beneq Genesis ALD原子层沉积系统
Raith 电子束光刻系统EBL 50KeV
JEOL电子束光刻机系统EBL
nGauge便携式芯片原子力显微镜AFM
JEOL钨灯丝扫描电子显微镜SEM
JEOL触摸屏控制热场发射扫描电子镜
JEOL时间飞行质谱仪
HS1000型三维表面形貌仪
PS50美国Nanovea三维光学轮廓仪
CB500纳米划痕仪NANOVEA
Bruker布鲁克台阶仪Dektak XT
Bruker布鲁克台阶仪Dektak XTL
德国 Raith 电子束光刻机 Pioneer Two
日本JEOL电子束光刻机JBX-9500FS
日本JEOL电子束光刻机JBX-6300FS
Swiss Cluster ALD原位多层复合原子层沉积系统
Swiss Cluster ALD高性能原子层沉积系统3D材料
PVD&ALD集群系统
Alpha微波等离子去胶机Q系列
ALPHA 等离子去胶机Q240
Axic反应离子刻蚀RIE,等离子增强化学气相沉积PECVD
RIE反应离子刻蚀机
超二维材料等离子软刻蚀系统ETCH
AXIC电感耦合深度反应离子蚀刻ICP
RIE等离子刻蚀机Etchlab 200
Sentech电感耦合等离子体ICP干法刻机SI 500
电容耦合等离子体刻蚀(CCP)设备
8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀设备
8英寸电感耦合等离子体刻蚀(ICP)设备
8英寸金属刻蚀设备
8英寸硅刻蚀设备
12英寸金属刻蚀设备
12英寸硬掩膜刻蚀设备
8英寸离子束沉积(IBD)设备
8英寸离子束塑形(IBS)设备
12英寸离子束塑形(IBS) 设备
12英寸特种金属膜层刻蚀设备
新型离子枪
离子束刻蚀机
离子束刻蚀机
低温ICP-RIE等离子体刻蚀系统
RIE等离子蚀刻系统
等离子刻蚀系统RIE
RIE等离子刻蚀系统
ASTRO PACTO-100微波等离子晶圆清洗机