200mm 高精度紫外纳米压印光刻设备图片

本图片来自青岛天仁微纳科技有限责任公司提供的200mm 高精度紫外纳米压印光刻设备,型号为GL8 CLIV Gen2天仁微纳半导体行业专用仪器设备,产地为中国大陆山东,属于品牌,参考价格为面议,公司还可为用户供应高品质的高精度紫外纳米压印光刻设备200mm全自动纳米压印光刻生产线GL300Cluster等仪器。
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仪器核心参数

产地类别: 国产
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