本图片来自深圳市矢量科学仪器有限公司提供的Plasma Process Cluster 多腔等离子体工艺系统,型号为SLKX-BS-1130的矢量科学半导体行业专用仪器设备,产地为中国大陆广东,属于品牌,参考价格为面议,公司还可为用户供应高品质的纵向式Cat-CVD设备、扫描声学显微镜 等仪器。
深圳市矢量科学仪器有限公司是仪器信息网的银牌,合作关系长达2年,工商信息已通过人工核验,获得仪信通诚信认证,请放心选择!
同类推荐
看了等离子体刻蚀设备的用户又看了
等离子清洗机ZEPTO
等离子清洗机Atto
等离子清洗机FEMTO
等离子清洗机PICO
Oxford PlasmaLab ICP 133
日本SAMCO PD-4800等离子体增强的化学气相沉积系统
刻蚀设备
高密度等离子刻蚀装置
NLD干法刻蚀设备
干法刻蚀设备
干法刻蚀装置
感 应 耦 合 等 离 子 刻 蚀 机
超二维材料等离子软刻蚀系统ETCH
AXIC电感耦合深度反应离子蚀刻ICP
Axic反应离子刻蚀RIE,等离子增强化学气相沉积PECVD
Sentech电感耦合等离子体ICP干法刻机SI 500
RIE等离子刻蚀机Etchlab 200
ICPECVD等离子沉积设备SI 500 D
SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔
RIE反应离子刻蚀机
信利泰等离子清洗机6084
干法刻蚀装置
干法刻蚀设备
NLD干法刻蚀设备
高密度等离子刻蚀装置
刻蚀设备
SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔
ICPECVD等离子沉积设备SI 500 D
RIE等离子刻蚀机Etchlab 200
Sentech电感耦合等离子体ICP干法刻机SI 500
Axic反应离子刻蚀RIE,等离子增强化学气相沉积PECVD
AXIC电感耦合深度反应离子蚀刻ICP
超二维材料等离子软刻蚀系统ETCH
RIE反应离子刻蚀机
科研反应离子刻蚀PECVD
感 应 耦 合 等 离 子 刻 蚀 机
等离子清洗机PICO
等离子清洗机FEMTO
等离子清洗机Atto
等离子清洗机ZEPTO
日本SAMCO PD-4800等离子体增强的化学气相沉积系统
Oxford PlasmaLab ICP 133
Plasma Process Cluster 多腔等离子体工艺系统
Plasma Etching Cluster 多腔等离子体刻蚀系统
微波等离子体刻蚀机