反应性离子刻蚀系统RIE图片
本图片来自深圳市矢量科学仪器有限公司提供的反应性离子刻蚀系统RIE，型号为customized-12的牛津仪器半导体行业专用仪器设备，产地为其他其他，属于品牌，参考价格为面议，公司还可为用户供应高品质的化合物半导体沉积系统、金属化学气相沉积MOCVD等仪器。
深圳市矢量科学仪器有限公司是仪器信息网的银牌，合作关系长达3年，工商信息已通过人工核验，获得仪信通诚信认证，
深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，请放心选择！
查看 反应性离子刻蚀系统RIE 信息
同类推荐
看了等离子体刻蚀设备的用户又看了
等离子清洗机ZEPTO
等离子清洗机Atto
等离子清洗机FEMTO
等离子清洗机PICO
ASTRO PACTO-100微波等离子晶圆清洗机
SAMCO RIE等离子蚀刻设备 RIE-10NR
Oxford PlasmaLab ICP 133
日本SAMCO PD-4800等离子体增强的化学气相沉积系统
微波等离子体刻蚀机
赛奥特(SAT)等离子清洗机 SAT 100
赛奥特（SAT)等离子刻蚀 SAT 210
离子束刻蚀系统IBE
深硅刻蚀系统DEEP SI ETCH
RIE反应离子刻蚀机
刻蚀机终点检测系统
Plasma Etching Cluster 多腔等离子体刻蚀系统
Plasma Process Cluster 多腔等离子体工艺系统
刻蚀设备
高密度等离子刻蚀装置
NLD干法刻蚀设备
Axic反应离子刻蚀RIE，等离子增强化学气相沉积PECVD
RIE反应离子刻蚀机
超二维材料等离子软刻蚀系统ETCH
AXIC电感耦合深度反应离子蚀刻ICP
RIE等离子刻蚀机Etchlab 200
Sentech电感耦合等离子体ICP干法刻机SI 500
电容耦合等离子体刻蚀（CCP）设备
8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀设备
8英寸电感耦合等离子体刻蚀（ICP）设备
8英寸金属刻蚀设备
8英寸硅刻蚀设备
12英寸金属刻蚀设备
12英寸硬掩膜刻蚀设备
8英寸离子束沉积（IBD）设备
8英寸离子束塑形（IBS）设备
12英寸离子束塑形（IBS) 设备
12英寸特种金属膜层刻蚀设备
新型离子枪
离子束刻蚀机
离子束刻蚀机
低温ICP-RIE等离子体刻蚀系统
RIE等离子蚀刻系统
等离子刻蚀系统RIE
RIE等离子刻蚀系统
ASTRO PACTO-100微波等离子晶圆清洗机